Catégorie Article dans une revue Auteurs Mohamed Boutchich Katir Ziouche Pascale Godts Didier Leclercq https://hal.science/hal-00148729v1 doc ID 148729 Nom Characterization of phosphorus and boron heavily doped LPCVD polysilicon films in the temperature range 293-373K Date de publication mer 24/01/2024 - 12:00